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シリコン熱酸化膜とその界面―基礎物性から超LSIへの応用まで
西岡 泰城/大木 義路/西川 宏之/服部 健雄/岩崎 裕/森田 悦郎/吉見 年弘/桜井 真理/島貫 康/下田 高広/今井 馨太郎/蒲原 史朗/鳥海 明/塩野 登/塩澤 順一/山部 紀久夫/安田 直樹/高木 信一/谷口 研二
MOSデバイスエピタキシャルウェーハ
岸野 正剛/金田 寛/羽深 等/橋本 正幸/星野 甲子夫/太田 豊/山本 秀和/酒井 勲美/村中 雅也/田中 研一/浅山 英一/定光 信介/竹野 博/清水 博文/八掛 保夫/小飯塚 正明/原 徹/吉田 知佐/島貫 康/津屋 英樹